› Ion Beam Etch Processes at IEMN - Giuseppe Di Gioia, Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
09:00-09:20 (20min)
› Gravure RIE recto verso pour membrane suspendue - Emmanuel André, Aix Marseille Univ, CNRS, CINAM, Marseille, France
09:20-09:40 (20min)
› Prise en main de la machine de gravure ICP-RIE Corial 210IL - Malo ROBIN, IETR,Rennes
09:40-10:00 (20min)
› Développements technologiques de VECSEL-GaAs pour l'émission monomode de forte puissance - Abdelmounaim Harouri, Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies
10:50-11:10 (20min)