Programme
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événement |
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13:00 - 13:30
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Accueil café (Salle A5) |
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13:30 - 14:00
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Présentation de la centrale de technologie du C2N (Amphi) |
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14:00 - 15:00
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Lithographie |
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14:00 - 14:20 |
› Photolithographie interférentielle à la volée de réseaux de diffraction à des périodes sub-longueur d'onde - Arnaud Meyer, Laboratoire Hubert Curien |
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14:20 - 14:40 |
› Présentation des résultats des tests effectués sur la résine électronique épaisse HSQ (32 %) nouvelle formulation d'EM Resist. - Yves Deblock, Deblock Yves |
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14:40 - 15:00 |
› Focus sur la Dilase 250+ - olivier de sagazan, Nanorennes IETR |
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15:00 - 15:30
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Pause café |
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15:30 - 16:30
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Lithographie (Amphi) |
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15:30 - 15:50 |
› Quantum Design/DMO - Laurent Mazenq, Laboratoire d'Analyse et d'Architecture des Systèmes |
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15:50 - 16:10 |
› Développement d'une cellule en verre nanostructurée en HSQ, infiltrée par une vapeur de Césium - Yves Deblock, IEMN |
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16:10 - 16:30 |
› Photolithographie interférentielle à la volée de réseaux de diffraction à des périodes sub-longueur d'onde - Arnaud Meyer, Laboratoire Hubert Curien |
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16:30 - 18:00
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Visite salle blanche - Visite salle blanche |
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| Heures |
événement |
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08:30 - 09:10
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Accueil café |
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09:10 - 10:30
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Litho-gravure |
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09:10 - 09:30 |
› Réalisation de dispositif en technologie « photoresistless » - olivier de sagazan, Nanorennes IETR |
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09:30 - 09:50 |
› Dissipative layers for HSQ resist nanopatterning by E-beam lithography on insulating substrates - Anne-Sophie VAILLARD, IEMN |
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09:50 - 10:10 |
› Nanoantennes métaliques par nanoimpression et lift-off pour applications à l'énergie solaire - Jean-Baptiste Doucet, LAAS-CNRS |
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10:10 - 10:30 |
› Étude de la résine HSQ en poudre pour la lithographie électronique et la gravure - Justine Harmel, CEMES-CNRS |
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10:30 - 11:00
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Pause café |
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11:00 - 12:30
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Tables rondes |
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12:30 - 13:30
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Déjeuner |
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13:30 - 15:30
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Industriels (Amphi) |
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13:30 - 14:00 |
› Quantum Design/DMO - Jean-Paul Gaston, Quantum Design / Dorothée Petit, DMO |
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14:00 - 14:30 |
› Scia Systems - Emmanuel Milan, DKSH / Manuela Loetsch, Scia-systems |
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14:30 - 15:00 |
› ElectronMec/ Nanosystem Solutions/ Hummink - Pierre Pujol, ElectronMec / Frédéric Raynal, Hummink |
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15:00 - 15:30 |
› Sentech - Côme Chevailler, Thomas Tatry, Sentech |
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15:30 - 16:00
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Pause café |
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16:00 - 17:30
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Session posters/industriels - Session posters/industriels |
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18:00 - 22:30
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Diner - Forges-les-Bains |
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| Heures |
événement |
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08:30 - 09:00
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Accueil café |
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09:00 - 10:00
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Gravure |
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09:00 - 09:20 |
› Ion Beam Etch Processes at IEMN - Giuseppe Di Gioia, Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 |
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09:20 - 09:40 |
› Gravure RIE recto verso pour membrane suspendue - Emmanuel André, Aix Marseille Univ, CNRS, CINAM, Marseille, France |
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09:40 - 10:00 |
› Prise en main de la machine de gravure ICP-RIE Corial 210IL - Malo ROBIN, IETR,Rennes |
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10:00 - 10:30
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Pause café |
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10:30 - 12:00
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Gravure |
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10:30 - 10:50 |
› Plasma O2 : TERGEO - Mathieu Arribat, ARRIBAT |
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10:50 - 11:10 |
› Développements technologiques de VECSEL-GaAs pour l'émission monomode de forte puissance - Abdelmounaim Harouri, Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies |
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12:00 - 13:30
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Panier repas |
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13:30 - 15:00
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Visite salle blanche - Visite salle blache |
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