08:00
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›8:30 (30min)
8:30 - 9:00 (30min)
Accueil café
›9:00 (1h)
9:00 - 10:00 (1h)
Gravure
Chairman: Feriel Laourine
› Ion Beam Etch Processes at IEMN
- Giuseppe Di Gioia, Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
09:00-09:20 (20min)
› Gravure RIE recto verso pour membrane suspendue
- Emmanuel André, Aix Marseille Univ, CNRS, CINAM, Marseille, France
09:20-09:40 (20min)
› Prise en main de la machine de gravure ICP-RIE Corial 210IL
- Malo ROBIN, IETR,Rennes
09:40-10:00 (20min)
›10:00 (30min)
10:00 - 10:30 (30min)
Pause café
›10:30 (1h)
10:30 - 11:30 (1h)
Gravure
chairman: Laurence Ferlazzo (sans industriels)
› Plasma O2 : TERGEO
- Mathieu Arribat, ARRIBAT
10:30-10:50 (20min)
› Développements technologiques de VECSEL-GaAs pour l'émission monomode de forte puissance
- Abdelmounaim Harouri, Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies
10:50-11:10 (20min)
› Fabrication de structures 3D complexes en verre par la méthode FLICE
- Sylwester Bargiel, FEMTO-ST
11:10-11:30 (20min)
›11:30 (30min)
11:30 - 12:00 (30min)
Clôture des journées
›12:00 (1h30)
12:00 - 13:30 (1h30)
Panier repas
›13:30 (1h30)
13:30 - 15:00 (1h30)
Visite salle blanche
SB
