|
mardi 17 juin 2025
| Heures | événement | (+) |
| 13:00 - 13:30 | Accueil café (Salle A5) | |
| 13:30 - 14:00 | Présentation de la centrale de technologie du C2N (Amphi) | |
| 14:00 - 15:00 | Lithographie (Amphi) - JR Coudevylle | (+) |
| 14:00 - 14:20 | › Point du groupe lithographie d'EUROnanoLAB - Laurent Mazenq, LAAS Toulouse | |
| 14:20 - 14:40 | › Présentation des résultats des tests effectués sur la résine électronique épaisse HSQ (32 %) nouvelle formulation d'EM Resist. - Yves Deblock, IEMN | |
| 14:40 - 15:00 | › Focus sur la Dilase 250+ - olivier de sagazan, Nanorennes IETR | |
| 15:00 - 15:30 | Pause café | |
| 15:30 - 16:30 | Lithographie (Amphi) - JR Coudevylle | (+) |
| 15:30 - 15:50 | › Développement d'une cellule en verre nanostructurée en HSQ, infiltrée par une vapeur de Césium - Yves Deblock, IEMN | |
| 15:50 - 16:10 | › Photolithographie interférentielle à la volée de réseaux de diffraction à des périodes sub-longueur d'onde - Arnaud Meyer, Laboratoire Hubert Curien | |
| 16:10 - 16:30 | › Dissipative layers for HSQ resist nanopatterning by E-beam lithography on insulating substrates - Anne-Sophie VAILLARD, IEMN | |
| 16:30 - 18:00 | Visite salle blanche - SB |
mercredi 18 juin 2025
| Heures | événement | (+) |
| 08:30 - 09:10 | Accueil café | |
| 09:10 - 10:30 | Litho-gravure | (+) |
| 09:10 - 09:30 | › Réalisation de dispositif en technologie « photoresistless » - olivier de sagazan, Nanorennes IETR | |
| 09:30 - 09:50 | › Étude de la résine HSQ en poudre pour la lithographie électronique et la gravure - Justine Harmel, CEMES-CNRS | |
| 09:50 - 10:10 | › Nanoantennes métaliques par nanoimpression et lift-off pour applications à l'énergie solaire - Jean-Baptiste Doucet, LAAS-CNRS | |
| 10:10 - 10:30 | › ENL Dry Etch group activities - Djaffar Belharet, Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies | |
| 10:30 - 11:00 | Pause café | |
| 11:00 - 12:30 | Tables rondes | |
| 12:30 - 13:30 | Déjeuner | |
| 13:30 - 15:30 | Industriels (Amphi) | (+) |
| 13:30 - 14:00 | › Quantum Design/DMO - Jean-Paul Gaston, Quantum Design - Dorothée Petit, DMO | |
| 14:00 - 14:30 | › Sentech - Côme Chevailler, Thomas Tatry, Sentech | |
| 14:30 - 15:00 | › ElectronMec/ Nanosystem Solutions/ Hummink - Pierre Pujol, ElectronMec / Frédéric Raynal, Hummink | |
| 15:00 - 15:30 | › Scia Systems - Emmanuel Milan, DKSH / Manuela Loetsch, Scia-systems | |
| 15:30 - 16:00 | Pause café | |
| 16:00 - 17:30 | Session posters/industriels - Session posters/industriels | |
| 18:00 - 22:30 | Diner - Forges-les-Bains |
jeudi 19 juin 2025
| Heures | événement | (+) |
| 08:30 - 09:00 | Accueil café | |
| 09:00 - 10:00 | Gravure | (+) |
| 09:00 - 09:20 | › Ion Beam Etch Processes at IEMN - Giuseppe Di Gioia, Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 | |
| 09:20 - 09:40 | › Gravure RIE recto verso pour membrane suspendue - Emmanuel André, Aix Marseille Univ, CNRS, CINAM, Marseille, France | |
| 09:40 - 10:00 | › Prise en main de la machine de gravure ICP-RIE Corial 210IL - Malo ROBIN, IETR,Rennes | |
| 10:00 - 10:30 | Pause café | |
| 10:30 - 12:00 | Gravure | (+) |
| 10:30 - 10:50 | › Plasma O2 : TERGEO - Mathieu Arribat, ARRIBAT | |
| 10:50 - 11:10 | › Développements technologiques de VECSEL-GaAs pour l'émission monomode de forte puissance - Abdelmounaim Harouri, Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies | |
| 11:10 - 11:30 | › Fabrication de structures 3D complexes en verre par la méthode FLICE - Sylwester Bargiel, FEMTO-ST | |
| 12:00 - 13:30 | Panier repas | |
| 13:30 - 15:00 | Visite salle blanche - SB |
|
|