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13:00 - 13:30 (30min)
Accueil café
13:30 - 14:00 (30min)
Présentation de la centrale de technologie du C2N
Amphi
14:00 - 15:00 (1h)
Lithographie
Chairman: Jean-René Coudevylle
› Point du groupe lithographie d'EUROnanoLAB
- Laurent Mazenq, LAAS Toulouse
14:00-14:20 (20min)
› Présentation des résultats des tests effectués sur la résine électronique épaisse HSQ (32 %) nouvelle formulation d'EM Resist.
- Yves Deblock, IEMN
14:20-14:40 (20min)
› Focus sur la Dilase 250+
- olivier de sagazan, Nanorennes IETR
14:40-15:00 (20min)
15:00 - 15:30 (30min)
Pause café
15:30 - 16:30 (1h)
Lithographie
Chairman- Jean-René Coudevylle
› Développement d'une cellule en verre nanostructurée en HSQ, infiltrée par une vapeur de Césium
- Yves Deblock, IEMN
15:30-15:50 (20min)
› Photolithographie interférentielle à la volée de réseaux de diffraction à des périodes sub-longueur d'onde
- Arnaud Meyer, Laboratoire Hubert Curien
15:50-16:10 (20min)
› Dissipative layers for HSQ resist nanopatterning by E-beam lithography on insulating substrates
- Anne-Sophie VAILLARD, IEMN
16:10-16:30 (20min)
16:30 - 18:00 (1h30)
Visite salle blanche
SB
8:30 - 9:10 (40min)
Accueil café
9:10 - 10:30 (1h20)
Litho-gravure
Chairman: Nathalie Bardou
› Réalisation de dispositif en technologie « photoresistless »
- olivier de sagazan, Nanorennes IETR
09:10-09:30 (20min)
› Étude de la résine HSQ en poudre pour la lithographie électronique et la gravure
- Justine Harmel, CEMES-CNRS
09:30-09:50 (20min)
› Nanoantennes métaliques par nanoimpression et lift-off pour applications à l'énergie solaire
- Jean-Baptiste Doucet, LAAS-CNRS
09:50-10:10 (20min)
› ENL Dry Etch group activities
- Djaffar Belharet, Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies
10:10-10:30 (20min)
10:30 - 11:00 (30min)
Pause café
11:00 - 12:30 (1h30)
Tables rondes
12:30 - 13:30 (1h)
Déjeuner
13:30 - 15:30 (2h)
Industriels
Chairman: Feriel Laourine
› Quantum Design/DMO
- Jean-Paul Gaston, Quantum Design - Dorothée Petit, DMO
13:30-14:00 (30min)
› Sentech
- Côme Chevailler, Thomas Tatry, Sentech
14:00-14:30 (30min)
› ElectronMec/ Nanosystem Solutions/ Hummink
- Pierre Pujol, ElectronMec / Frédéric Raynal, Hummink
14:30-15:00 (30min)
› Scia Systems
- Emmanuel Milan, DKSH / Manuela Loetsch, Scia-systems
15:00-15:30 (30min)
15:30 - 16:00 (30min)
Pause café
16:00 - 17:30 (1h30)
Session posters/industriels
Session posters/industriels
18:00 - 22:30 (4h30)
Diner
Forges-les-Bains
8:30 - 9:00 (30min)
Accueil café
9:00 - 10:00 (1h)
Gravure
Chairman: Feriel Laourine
› Ion Beam Etch Processes at IEMN
- Giuseppe Di Gioia, Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
09:00-09:20 (20min)
› Gravure RIE recto verso pour membrane suspendue
- Emmanuel André, Aix Marseille Univ, CNRS, CINAM, Marseille, France
09:20-09:40 (20min)
› Prise en main de la machine de gravure ICP-RIE Corial 210IL
- Malo ROBIN, IETR,Rennes
09:40-10:00 (20min)
10:00 - 10:30 (30min)
Pause café
10:30 - 11:30 (1h)
Gravure
chairman: Laurence Ferlazzo (sans industriels)
› Plasma O2 : TERGEO
- Mathieu Arribat, ARRIBAT
10:30-10:50 (20min)
› Développements technologiques de VECSEL-GaAs pour l'émission monomode de forte puissance
- Abdelmounaim Harouri, Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies
10:50-11:10 (20min)
› Fabrication de structures 3D complexes en verre par la méthode FLICE
- Sylwester Bargiel, FEMTO-ST
11:10-11:30 (20min)
11:30 - 12:00 (30min)
Clôture des journées
12:00 - 13:30 (1h30)
Panier repas
13:30 - 15:00 (1h30)
Visite salle blanche
SB
