13:00
14:00
15:00
16:00
17:00
18:00
13:00 - 13:30 (30min)
Accueil café
Salle A5
13:30 - 14:00 (30min)
Présentation de la centrale de technologie du C2N
Amphi
14:00 - 15:00 (1h)
Lithographie
Amphi
JR Coudevylle
› Point du groupe lithographie d'EUROnanoLAB
- Laurent Mazenq, LAAS Toulouse
14:00-14:20 (20min)
› Présentation des résultats des tests effectués sur la résine électronique épaisse HSQ (32 %) nouvelle formulation d'EM Resist.
- Yves Deblock, IEMN
14:20-14:40 (20min)
› Focus sur la Dilase 250+
- olivier de sagazan, Nanorennes IETR
14:40-15:00 (20min)
›15:00 (30min)
15:00 - 15:30 (30min)
Pause café
15:30 - 16:30 (1h)
Lithographie
Amphi
JR Coudevylle
› Développement d'une cellule en verre nanostructurée en HSQ, infiltrée par une vapeur de Césium
- Yves Deblock, IEMN
15:30-15:50 (20min)
› Photolithographie interférentielle à la volée de réseaux de diffraction à des périodes sub-longueur d'onde
- Arnaud Meyer, Laboratoire Hubert Curien
15:50-16:10 (20min)
› Dissipative layers for HSQ resist nanopatterning by E-beam lithography on insulating substrates
- Anne-Sophie VAILLARD, IEMN
16:10-16:30 (20min)
›16:30 (1h30)
16:30 - 18:00 (1h30)
Visite salle blanche
SB
