Nous avons le plaisir de vous annoncer la tenue des prochaines rencontres RENATECH Litho/Gravure qui auront lieu au C2N (Palaiseau) du mardi 17 juin 2025 début d'après-midi au jeudi 19 juin 2025 début d'après-midi.
Ces journées rassemblent les experts du réseau Renatech dans les domaines de la lithographie et de la gravure. C'est donc l'occasion de présenter les dernières avancées réalisées dans ces domaines. Des industriels seront également invités à présenter leurs dernières innovations.
Les places seront limitées à 60 personnes, avec priorité aux personnes faisant une présentation.
Des visites de la salle blanche seront organisées le mardi à partir de 17h00 ainsi que le jeudi à partir de 13h30.
La date limite pour les inscriptions est fixée au 09/05/2025 16/05/2025 via l'onglet inscription.
Les soumissions des contributions se font jusqu'au 02/05/202516/05/2025 via l'onglet « soumission d'une contribution ».
Le format des présentations est de 15 min + 5 min de questions, ajustables en fonction des propositions.